MeV ion beam lithography of high aspect ratio structures with a focused or aperture-shaped beam for applications in biomedical studies and microfluidics
MeV ion beam lithography of high aspect ratio structures with a focused or aperture-shaped beam for applications in biomedical studies and microfluidics
urn.fi/URN:ISBN:978-951-39-3318-0
(Jyväskylän yliopisto - Jykdok)
Hae kokoteksti
Tallennettuna:
| Ulkoasu |
65 sivua Myös painettuna (ISBN 978-951-39-3317-3) |
|---|---|
| Kieli |
englanti |
| Alkuteoksen kieli |
englanti |
| Tiivistelmän kieli |
heprea |
| Julkaisija |
Jyväskylä :
University of Jyväskylä,
2008.
|
| Opinnäyte | Väitöskirja Jyväskylän yliopisto, fysiikka |
| Sarja | Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä, ISSN 0075-465X; 9/2008. |
| Luokitus | |
| Aiheet | |
| Lisätiedot | by Sergey Gorelick |
| ISBN |
978-951-39-3318-0 PDF |
| Hae kokoteksti | |